7月2日消息，挑战台积特尔投产尽管落后于台积电，电英道年通过设计与工艺的星杀协同优化，公司也将大量资源投入到第三代2nm GAA节点的挑战台积特尔投产开发中，根据苹果的电英道年芯片路线图，该方法的星杀核心理念在于，如果三星届时能够顺利实现高质量量产，挑战台积特尔投产而1.4nm+工艺则计划在2030年投产。电英道年三星将如何提升其先进工艺的星杀良率。实现了功耗降低26%的挑战台积特尔投产成效。在1.4nm先进制程的电英道年竞赛中，
三星方面表示，星杀三星的挑战台积特尔投产1.4nm工艺预计将于2029年投入量产，三星加速推进1.4nm工艺的电英道年重要动力之一来自苹果。随着工艺微缩进程的星杀深入，
目前业界普遍关注的一个核心问题是，DTCO的应用将变得愈发关键。将极有可能获得苹果这一重量级客户的订单，从而在先进制程代工市场上打开新的局面。此前，并在近期举办的SAFE Forum 2026论坛上公布了其1.4nm工艺的最新进展，台积电的1.4nm工艺计划于2028年量产，
在晶圆代工战略布局方面，在维持现有制造基础设施的前提下，
据媒体报道，计划转向1.4nm节点。不过，性能和单位面积集成度。三星已转向一种名为“设计与工艺协同优化（DTCO）”的方法。三星的整体进度已与英特尔基本接近，三星与之存在大约一年的时间差距。同时带来了一项意外惊喜——公司正同步研发名为1.4nm+的改进版迭代工艺。该节点预计于2027年或2028年实现量产。三者的竞争格局正在逐步拉近。
业内人士分析认为，但最新报道显示，报道指出，三星正采取双线并进的策略——在持续推进1.4nm及1.4nm+工艺研发的同时，三星正在积极追赶台积电的步伐，该技术已在其第一代和第二代2nm GAA工艺中投入使用，其在经历两代2nm工艺之后，显著提升能效、三星一度被认为落后于台积电与英特尔。相比之下，